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PVD镀膜工艺简介ppt课件.ppt

1、12二、真空蒸发镀膜 一、PVD的定义及分类三、真空溅射镀膜四、真空离子镀膜3一、PVD的定义及分类4 4 物理气相沉积是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空或低气压气体放电条件下,即在低温等离子体中进行的。涂层的物质源是固态物质,经过“蒸发或溅射”后,在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固体物质涂层。 1.PVD的定义5 52.PVD的基本过程l 从原料中发射粒子(经过蒸发、升华、溅射和分解等过程);l 粒子输运到基片(粒子之间发生碰撞,产生离化、复合、反应,能量的交换和运动方向的变化);l 粒子在基片上凝结、成核、长大和成膜。6 63.PVD的分类真空蒸发镀膜真空溅射镀膜真空离子镀膜

2、7 7二、真空蒸发镀膜8 81.真空的定义2.真空蒸发镀膜的定义 泛指低于一个大气压的气体状态。与普通大气压状态相比,分子密度较为稀薄,从而气体分子和气体分子、气体分子和器壁之间的碰撞几率要低一些。 真空蒸发镀膜是在真空条件下,用蒸发器加热蒸发物质使之汽化,蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。 括热蒸发和EB蒸发(电子束蒸发)9 910101111热蒸发是在真空状况下,将所要蒸镀的材料利用电阻加热达到熔化温度,使原子蒸发,到达并附着在基板表面上的一种镀膜技术。 特点:装置便宜、操作简单广泛用于Au、Ag、Cu、Ni、In、Cr等导体材料。4.热蒸发原理及特点12125.E-

3、Beam蒸发原理 热电子由灯丝发射后,被加速阳极加速,获得动能轰击到处于阳极的蒸发材料上,使蒸发材料加热气化,而实现蒸发镀膜。 特点:多用于要求纯度极高的膜、绝缘物的蒸镀和高熔点物质的蒸镀13131414二、真空溅射镀膜1515 给靶材施加高电压(形成等离子状态),使正荷电气体离子撞击靶材、金属原子飞弹,而在样品表面形成金属皮膜的方法。1.真空溅射镀膜的定义16161717 电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片,氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。2.磁控溅射镀膜的定义18183.辉光放电的定义 辉光放电是指在稀薄气体中,两个电极之间加上电压时产生的一种气体放电现象。1919直流溅射:适用于金属材料射频溅射:是适用于各种金属和非金属材料的一种溅射沉积方法20204.真空溅射镀膜的优缺点2121三、真空离子镀膜2222 在真空条件下,利用气体放电使气体或蒸发物质离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时,把蒸发物或其反应物蒸镀在基片上。 离子镀把辉光放电、等离子体技术与真空蒸发镀膜技术结合在一起1.真空离子镀膜的定义232324242.真空离子镀膜的原理25253.真空离子镀膜的特点2626真空蒸镀、溅射镀膜和离子镀的比较2727Thank you!

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