镭雕工艺简介课件.ppt

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资源描述

1、昆山金利商标有限公司昆山金利商标有限公司镭射激光雕刻工艺简介EVERKEBBRIGHTl镭射激光雕刻机按其发光的原理可分为CO2激光雕刻机和半导体激光雕刻机。lCO2激光雕刻机广泛适用于木器、五金、塑胶、通讯等行业;半导体激光雕刻机广泛适用于电子、电脑、五金、通讯等行业。l最大输出功率为50KW,最大雕刻范围为100*100mm,最大雕刻深度为0.3mm,重复精度为0.001mm,雕刻速度3600mm/秒l镭射激光雕刻机硬件包括计算机硬件和激光发光器硬件1.计算机硬件包含电源、显示器、主板、机箱、硬盘、CPU、内存条、软驱等。2.激光发光器硬件包含主控箱、冷却水系统、Q驱动器、振镜驱动器、电流

2、控制器、激光聚光腔、镜头、作业平台、脚踏开关等。l镭射激光雕刻机软件包括计算机操作系统(Windows98和其它版本)和雕刻软件Hans laser2000。该雕刻软件可支持的文件格式有dwg、cdr等。四、镭射激光雕刻机的调试镭射激光雕刻机雕刻效果主要从以下几个方面进行调试:1.电流强度2.焦距3.参数电流强度对雕刻效果的影响1.电流强度大,雕刻深度深、字体线条粗;2.电流强度小,雕刻深度浅、字体线条细;3.雕刻金属材料时,电流强度大,一般在10以上;4.雕刻非金属材料时,电流强度小,一般在9.5-10左右,尢其是雕刻透光按键时电流强度一般都在9.8左右。电流强度对雕刻非金属材料有很大影响,

3、电流太大会破坏产品表层如:烧焦、雕刻面起泡等;太小图案会不清晰、无深度。焦距对雕刻效果的影响 焦距的定义:激光发光镜头与被雕刻面之间的垂直距离,一般为17.8-18cm之间。被雕刻面离焦点近,激光能量大、雕刻深度深、字体线条细;被雕刻面离焦点远,激光能量小、雕刻深度浅,字体线条粗;雕刻金属材料时,一般离焦点要近雕刻非金属材料时,一般可偏离焦点,尢其是雕刻透光按键时,一定要偏离焦点3-5mm。参数的调整对雕刻效果的影响下图为激光雕刻软件中参数调整对话框,以下将重点描述参数的意义、作用及调整其相应的参数对雕刻效果的影响。有效矢量步长太大:雕刻出的笔画不够精细、稀疏、无深度、雕刻速度度快;太小:雕刻

4、出的笔画精细、致密、有深度、雕刻速度慢;默认值:0.01mm使用范围:0.001-0.018mm备注:调整该参数可以明显改变雕刻的速度、精度和深度。取自图层0的打标参数打标次数1有效矢量步长(mm)0.012有效矢量步间延时(us)12空矢量步长(us)0.04空矢量步间延时(us)8激光开延时(step)2激光关延时(us)300跳转延时(us)500拐弯延时(us)5cw方式或硬件内调制方式FLASQ SWTICH频率(KHZ)5.000Q释放时间(us)5.000另存为删除设为默认值有效矢量步间延时太大:雕刻出的笔画精细、致密、有深度、雕刻速度慢;太小:雕刻出的笔画不够精细、稀疏、无深度

5、、雕刻速度快;默认值:20us 建议值:8-40us跳转延时跳转延时太大:振镜已充分转到,并停滞一段时间后才处理下一个笔画,增加雕刻时间;太小:振镜还未充分转到,PC就开始处理下一个笔画,笔画开始的地方会出现散点;默认值:2000us 使用范围:300-2000us激光开延时太大:振镜往前走得太多激光才打开,笔画的开始会不够长;太小:振镜往前走得太少激光才打开,笔画开始点会出现重点;默认值:2 step 使用范围:1-15 step备注:调整该参数可以减小首发重点问题。激光关延时太大:振镜已充分转到,并停留一段时间后激光才关闭,笔画末尾 点会形成重点,增加打标时间。太小:振镜还示充分转到,激光

6、就关闭,笔画的末尾不够默认值:1000us 使用范围:200-1000us备注:高速该参数可以减小笔画末尾重点的问题。拐弯延时:太大:振镜已充分转到,并停留一段时间后PC才处理画的下一线段,拐弯点会形成重点,增加打标时间;太小:振镜还未充分椟到,PC就开始处理笔画的下一线段,拐弯的地方会出现圆弧;默认值:5us 使用范围:3-6us备注:该参数一般不作调整。空矢量步长:太大:空笔画处理时间短,雕刻时间减少,但会出现笔画相连的情况;太小:空笔画处理时间长,雕刻时间增加;默认值:0.03mm 使用范围:0.03-0.08mm空矢量步间延时:取自图层0的打标参数打标次数1有效矢量步长(mm)0.01

7、2有效矢量步间延时(us)12空矢量步长(us)0.04空矢量步间延时(us)8激光开延时(step)2激光关延时(us)300跳转延时(us)500拐弯延时(us)5cw方式或硬件内调制方式FLASQ SWTICH频率(KHZ)5.000Q释放时间(us)5.000另存为删除设为默认值太大:空笔画处理时间长,雕刻时间增加;太小:空笔画处理时间短,雕刻时间减少,但会出现笔画相连的情况;默认值:20us 使用范围:6-20usQ频率:太大:聚能时间短,能量弱,雕刻出的点致密;太小:聚能时间长,能量强,雕刻出的点稀疏;默认值:3KHZ 使用范围:2-20KHZ备注:调整该参数可以明显改变精度和深度

8、Q释放时间默认值:8us 使用范围:3-30us(一般效果的数值调整与Q频率的乘积为24左右)五、效果调试方法提高精度1.有效矢量步长减小2.有效矢量步间延时增加3.Q频率增加增加深度1.有效矢量步长减小2.有效矢量步间延时增加3.Q频率减小4.电流增加提高雕刻速度1.有效矢量步长增加 4 4.激光关延时减小2.有效矢量步间延时减小 5.5.空矢量步长增加3.跳转延时减小 6.6.空矢量步间延时减小 取自图层0的打标参数打标次数1有效矢量步长(mm)0.012有效矢量步间延时(us)12空矢量步长(us)0.04空矢量步间延时(us)8激光开延时(step)2激光关延时(us)300跳转延时(us)500拐弯延时(us)5cw方式或硬件内调制方式FLASQ SWTICH频率(KHZ)5.000Q释放时间(us)5.000另存为删除设为默认值 注:一个参数调整有可能影响多种效果,所以为了得到较好的效果,一般要调整多个参数。全文完

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