1、光伏电池制备工艺1光伏电池制备的准备任务二任务二晶硅电池产业链工艺流程晶硅电池产业链工艺流程2 目目 录录 一.相关概念 二.产业链结构 三.主要工艺流程 1.原生多晶硅 2.单晶硅拉制工艺 3.多晶铸锭工艺 4.准单晶工艺 5.电池片生产工艺 四.总结3 定义:光伏组件是一种暴露在阳光下便会产生直流电的发电装置，几乎全部由半导体物料（例如硅）制成的固体光伏电池组成。由于没有活动的部分，故可以长时间操作而不会导致任何损耗(电池板使用寿命20年以上)。简单的光伏电池可以为手表及计算器提供能源，较复杂的光伏系统可以为房屋提供照明，并入电网供电。太阳能电池太阳能电池4太阳能太阳能电池电池晶硅电池晶硅
2、电池多元化合物薄多元化合物薄膜电池膜电池单晶硅电池单晶硅电池多晶硅电池多晶硅电池种类种类非晶硅薄膜电非晶硅薄膜电池池硫化镉硫化镉砷化镓砷化镓铜铟硒薄膜铜铟硒薄膜电池电池5多晶硅多晶硅:是单质硅的一种形态.熔融的单质硅在过冷的条件下凝固时,硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核,如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒,则这些晶粒结合起来,就形成多晶硅.单晶硅单晶硅：熔融的单质硅在过冷的条件下凝固时,硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核,如这些晶核长成晶面取向相同的晶粒,则这些晶粒结合起来,就形成单晶硅.6二二.产业链结构产业链结构7硅矿石silica太阳能级多晶硅SoG:67N工业硅MS-Si12N单晶
3、硅棒多晶铸锭化学法：改良西门子冶炼SiO2+C Si+CO2 Si+HClSiHCl3+H2SiHCl3+H2Si+HCl铸锭炉直拉或区熔（CZ or FZ）准单晶硅锭单晶硅片单晶硅太阳能电池多晶硅片铸锭炉切片机切片机多晶硅太阳能电池太阳能光伏发电系统切片机二二.产业链结构产业链结构81.原生多晶硅原生多晶硅三三.主要流程介绍主要流程介绍9三三.主要流程介绍主要流程介绍 三大主要生产方法三大主要生产方法多晶硅多晶硅改良西门子法改良西门子法硅烷法硅烷法冶金法冶金法注:前两种方法为化学方法,后一种为物理方法,国内改良西门子法占比95%以上10 改良西门子法改良西门子法三三.主要流程介绍主要流程介绍
4、.主要反应原理：Si+HCl SiHCl3+H2+SiCl4+SiH2Cl2（三氯氢硅合成炉）SiHCl3+H2 Si+HCl（还原炉）SiCl4+H2 SiHCl3+HCl(氢化炉)四氯化硅还原生产三氯氢硅一直是全球多晶硅生产企业广泛关注的焦点问题，此方法不但处理四氯化硅还原生产三氯氢硅一直是全球多晶硅生产企业广泛关注的焦点问题，此方法不但处理了副产物四氯化硅，同时还重新得到了生产多晶硅的原料三氯氢硅，氯化氢也可以自身利用，能显著地了副产物四氯化硅，同时还重新得到了生产多晶硅的原料三氯氢硅，氯化氢也可以自身利用，能显著地降低生产成本，各个生产企业都花费了大量的人力物力进行研究。降低生产成本，
5、各个生产企业都花费了大量的人力物力进行研究。11氯化氢氯化氢硅粉硅粉氯化氯化分离分离冷凝冷凝粗馏粗馏精馏精馏冷凝冷凝还原尾气还原尾气还原还原氢净化氢净化多晶硅多晶硅水电解水电解四氯化硅四氯化硅冷凝冷凝四氯化硅四氯化硅氢气、三氯氢硅氢气、三氯氢硅氯化氢氯化氢三氯氢硅三氯氢硅氢还原氢还原改良西门工艺流程改良西门工艺流程三三.主要流程介绍主要流程介绍12氢化方法：热氢化与冷氢化氢化方法：热氢化与冷氢化 热氢化技术热氢化技术 利用以下反应:2SiCl4+H22SiHCl3+2HCl 反应温度为12001250,压力范围1.52.5个大气压力,三氯氢硅的单程收率大约为17%20%左右.工艺优点工艺优点：
6、压力比较缓和,对设备要求低,安全性好,且氢气和四氯化硅比值较小,因此还原炉内四氯化硅浓度较高,保证了还原反应的速率以及充分性,且降低了后期分离的难度.工艺缺点工艺缺点：反应温度高，电耗高，TCS单耗2.2 3KWh/kg，加热片为易耗材料，运行费用较高，有碳污染的可能。三三.主要流程介绍主要流程介绍13热氢化改良西门子法多晶硅生产工艺流程简图热氢化改良西门子法多晶硅生产工艺流程简图三三.主要流程介绍主要流程介绍14 冷氢化技术冷氢化技术 利用以下反应:SiCl4+2H2+3Si 4SiHCl3 反应温度为450,压力范围1.51.8MPa,转化率大约为20%25%左右.需要催化剂NiO 工艺优
7、点工艺优点：反应温度低，电耗低，TCS单耗 1KWh/kg 工艺缺点工艺缺点：气固反应，操作压力较高，对设备密封性要求高，操作系统较复杂，提纯工作量大。三三.主要流程介绍主要流程介绍15冷氢化改良西门子法多晶硅生产工艺流程简图冷氢化改良西门子法多晶硅生产工艺流程简图16TCS:三氯化硅三氯化硅STC：四氯化硅：四氯化硅DCS：二氯二氢硅：二氯二氢硅17（3）硅烷法）硅烷法最终用硅烷热解制得多晶硅的方法其中制备硅烷的方法：硅镁合金工艺、氯硅烷歧化工艺、金属氢化物工艺三三.主要流程介绍主要流程介绍18（4）冶金法）冶金法工业硅工业硅酸洗酸洗氧化精炼氧化精炼真空处理真空处理凝固精炼凝固精炼太阳能级硅
8、太阳能级硅添加Ca去除Ti、Fe除B、C去除P、O、Ca、Al三三.主要流程介绍主要流程介绍19 1.光伏产业带动多晶硅产业的迅速发展，生产1MW太阳能电池约需要10吨多晶硅，晶体硅材料是主要的光伏材料，其市场占有率在80%以上，而且在今后相当长一段时期，也依然是太阳能的主流材料。2.西门子法是目前多晶硅生产的主流技术，约90%的多晶硅由此技术生产，短期内这种局面不会改变.3.多晶硅生产气体使用情况 氮气的消耗量是跟你的工艺设计、用途有关，一般年产一千吨的多晶硅，经验统计，消耗每小时在500700方，主要是用在尾气、置换气、压料气、擦洗气氩气的消耗主要是硅芯方面小小 结：结：三三.主要流程介绍
9、主要流程介绍202.单晶硅拉制工艺单晶硅拉制工艺三三.主要流程介绍主要流程介绍21（1）拉制方法及拉制过程：拉制方法及拉制过程：直拉单晶（CZ）和区熔（FZ）化料化料引晶引晶放肩放肩等径等径收尾收尾冷却冷却装炉装炉直拉单晶拉制过程图直拉单晶拉制过程图三三.主要流程介绍主要流程介绍化料化料引晶引晶放肩放肩等径等径收尾收尾装炉装炉22直拉单晶炉23三三.主要流程介绍主要流程介绍24 （2）氩气使用情况氩气使用情况：整个热场系统，包括两大部分，加热器发热，其它部分主耍是保温、导流，形成一定的温度梯度，使座落在石墨托里的石英坩埚中的熔料能按要求的晶向结晶生长。SiO22CSiC2CO SiCSiO2S
10、iO CO+Si SiO2siO2 拉制单晶需全程通氩，一边抽空,炉内压力控制在20乇左右。通过合理的热场结构，能迅速带走挥发物。减压有利于sio的挥发及防止co返回熔体，达到降氧和降碳的目的。氩气流量：35-55L/min(联创炉)，投料公斤，耗气量约170立方三三.主要流程介绍主要流程介绍253.多晶铸锭工艺多晶铸锭工艺（1）多晶铸锭炉发展趋势：a装料多 b周期短 C品质高 d功率低三三.主要流程介绍主要流程介绍26（2）工艺周期加热熔化长晶退火冷却冷却出炉出炉1540 约约10-15h1430 1370 900 约约4h整个工艺周期整个工艺周期三三.主要流程介绍主要流程介绍加热加热熔化熔
11、化长晶长晶退火退火2728（3）多晶铸锭炉主要生产厂家）多晶铸锭炉主要生产厂家 国外主要厂商国外主要厂商：美国GT SOLAR、德国ALD、普法拓普等，其中GT占据中国多晶铸锭炉市场约50%。国内主要厂商国内主要厂商：绍兴精工、中电48所、华盛天龙、京运通等三三.主要流程介绍主要流程介绍氩气主要使用量：氩气主要使用量：不需全程吹氩，不需全程吹氩，450铸锭炉单锭氩气耗量为铸锭炉单锭氩气耗量为7090方方294.准单晶工艺准单晶工艺（1）准单晶定义：准单晶（Mono Like）是基于多晶铸锭的工艺，在长晶时通过部分使用单籽晶，获得外观和电性能均类似单晶的多晶硅片。三三.主要流程介绍主要流程介绍3
12、0（2）籽晶铺设方式三三.主要流程介绍主要流程介绍31（3）工艺线路）工艺线路三三.主要流程介绍主要流程介绍32（4）准单晶产品的优势）准单晶产品的优势1.转换效率高于普通多晶，接近直拉单晶电池片18.3%。2.直拉单晶投料量约为100KG，准单晶铸锭投料量达430KG.3.比起普通多晶，组件功率提升明显，单位成本降低。4.可封装250 瓦（60 片排布），或300 瓦（72 片排布）的大组件。5.工艺成本上，直拉单晶成本为160 元人民币/公斤，准单晶铸锭的成本仅为 60 人民币/公斤三三.主要流程介绍主要流程介绍33(5)准单晶技术研发要点准单晶技术研发要点1.温度梯度改进温度梯度改进。针
13、对热场研发以改良温度梯度，同时还要注意热场2.晶种制备晶种制备。研究发现，准单晶晶种制备方向将朝着超大超薄的方向发展3.精确熔化控制。精确熔化控制。这一环节非常难以控制，它决定准单晶是否能够稳定生产，因此需要一个与之对应的精准熔化控制设备。据了解，为获得稳定的控制工艺，凤凰光伏开发了一套针对准单晶专用的晶种融化控制设备，可以在0.5mm 的时候进入长晶阶段；4.位错密度。位错密度。在很多生产过程中，效率衰减总是不可避免，为此把位错密度控制到最低，是此项工艺的关键；5.籽晶的重复利用技术籽晶的重复利用技术6.铸锭良率提升。铸锭良率提升。目前良率大约在40%60%之间，还有待提高。三三.主要流程介
14、绍主要流程介绍346.电池片生产工艺电池片生产工艺硅片检测表面绒面丝网印刷丝网印刷烧结烧结扩散制结去磷硅玻璃镀减反射膜镀减反射膜等离子刻蚀三三.主要流程介绍主要流程介绍硅片检测硅片检测表面绒面表面绒面扩散制结扩散制结去磷硅玻璃去磷硅玻璃等离子刻蚀等离子刻蚀35 表面绒面表面绒面：单晶硅绒面的制备是利用硅的各向异性腐蚀，在每平方厘米硅表面形成几百万个四面方锥体也即金字塔结构。由于入射光在表面的多次反射和折射，增加了光的吸收，提高了电池的短路电流和转换效率。工艺槽提通过氮气鼓泡来搅拌溶液以满足工艺要求，100MW生产线氮气消耗量约24m3/h（1）工艺所需氮气环节三三.主要流程介绍主要流程介绍36
15、 扩散工艺扩散工艺：太阳能电池需要一个大面积的PN结以实现光能到电能的转换，而扩散炉即为制造太阳能电池PN结的专用设备。在进舟、升温、稳定、通源、恒温、冷却、出舟过程中氮气消耗量约28m3/h(100MW)三三.主要流程介绍主要流程介绍37 去磷硅玻璃：去磷硅玻璃：该工艺用于太阳能电池片生产制造过程中，通过化学腐蚀法也即把硅片放在氢氟酸溶液中浸泡，使其产生化学反应生成可溶性的络和物六氟硅酸，以去除扩散制结后在硅片表面形成的一层磷硅玻璃。氮气作为动力源之一，消耗量为12m3/h三三.主要流程介绍主要流程介绍38三三.主要流程介绍主要流程介绍 等离子刻蚀：等离子刻蚀：由于在扩散过程中，即使采用背靠
16、背扩散，硅片的所有表面包括边缘都将不可避免地扩散上磷。PN结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流到PN结的背面，而造成短路。因此，必须对太阳能电池周边的掺杂硅进行刻蚀，以去除电池边缘的PN结。此工艺消耗的氮气主要是用于抽真空后工作腔内压力平衡和真空泵的氮气保护，氮气消耗量约8m3/h39三三.主要流程介绍主要流程介绍 甩干机氮气耗量：甩干机氮气耗量：在清洗制绒和去磷硅玻璃之后都需要使用甩干机，氮气主要用于甩干的过程中将硅片吹干，此过程氮气的消耗量约100m3/h40三三.主要流程介绍主要流程介绍 镀减反射膜镀减反射膜:抛光硅表面的反射率为35%,为了减少表面反射,提高电池的转换效
17、率,需要沉积一层氮化硅减反射膜。现在工业生产中常采用PECVD设备制备减反射膜。PECVD设备有四处需要使用氮气：第一是进出舟是需要用氮气吹扫，防止石墨舟被污染，第二是抽真空后平衡工艺管内外压力，第三是稀释尾气中硅烷的浓度，第四是真空泵的氮气保护。氮气消耗量：约50m3/h41三三.主要流程介绍主要流程介绍 外围设施氮气消耗量外围设施氮气消耗量:纯水制备系统的的氮气封水箱需要氮气保护、特气系统中，硅烷的氨气气柜的真空发生器需要氮气驱动等环节氮气消耗量在25m3/h.42总结：总结：随着太阳能行业的发展，多晶硅产业已经告别暴利时代，已进入产业过剩时期，在竞争日益激烈的今天，产业结构进入了深度调整期，只有技术领先、管理先进、成本优势明显的太阳能企业才能有机会度过光伏寒冬。43作业自己对于太阳能电池的认识以及展望要求：字数不限，以电子稿形式统一发到邮箱延伸可自行百度了解行业动态，禁照抄。4445
