大学精品课件:H-NMR.ppt

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1、23:43:09,第十三章 核磁共振波谱法,一、化学位移 二、偶合常数J,第二节 核磁共振波谱 主要参数,23:43:09,一、化学位移,(一)屏蔽作用与化学位移 理想化的、裸露的氢核,满足共振条件: 0 = H0 / (2 ) 产生单一的吸收峰; 实际上,氢核受周围不断运动着的电子影响。在外磁场作用下,运动着的电子产生相对于外磁场方向的感应磁场,起到屏蔽作用,使氢核实际受到的外磁场作用减小: H=(1- )H0 :屏蔽常数。 越大,屏蔽效应越大。 0 = / (2 ) (1- )H0 屏蔽的存在,共振需更强的外磁场(相对于裸露的氢核)。,23:43:09,1.化学位移:,0 = / (2 )

2、 (1- )H0 由于屏蔽作用的存在,氢核产生共振需要更大的外磁场强度(相对于裸露的氢核),来抵消屏蔽影响。,在有机化合物中,各种氢核 周围的电子云密度不同(结构中不同位置)共振频率有差异,即引起共振吸收峰的位移,这种现象称为化学位移。,23:43:09,2. 化学位移的表示方法,(1)位移的标准 没有完全裸露的氢核,没有绝对的标准。,相对标准:四甲基硅烷 Si(CH3)4 (TMS)(内标) 位移常数 TMS=0 (2) 为什么用TMS作为基准? a. 12个氢处于完全相同的化学环境,只产生一个尖峰; b.屏蔽强烈,位移最大。与有机化合物中的质子峰不重迭; c.化学惰性;易溶于有机溶剂;沸点

3、低,易回收。,23:43:09,(3)位移的表示方法,与裸露的氢核相比,TMS的化学位移最大,但规定 TMS=0,其他种类氢核的位移为负值,负号不加。, = ( 样 - TMS) / TMS 106 (ppm),小,屏蔽强,共振需要的磁场强度大,在高场出现,图右侧; 大,屏蔽弱,共振需要的磁场强度小,在低场出现,图左侧;,23:43:09,(二)影响化学位移的因素,1电负性-去屏蔽效应 与质子相连元素的电负性越强,吸电子作用越强,价电子偏离质子,屏蔽作用减弱,信号峰在低场出现。,-CH3 , =1.62.0,高场; -CH2I, =3.0 3.5, -O-H, -C-H, 大 小 低场 高场,

4、23:43:09,1.电负性对化学位移的影响,碳杂化轨道电负性:SPSP2SP3,23:43:09,2. 磁各向异性效应1,价电子产生诱导磁场,质子位于其磁力线上,与外磁场方向一致,去屏蔽。,23:43:09,磁各向异性效应2,价电子产生诱导磁场,质子位于其磁力线上,与外磁场方向一致,去屏蔽。,23:43:09,磁各向异性效应3,苯环上的6个电子产生较强的诱导磁场,质子位于其磁力线上,与外磁场方向一致,去屏蔽。,23:43:09,3.氢键效应,形成氢键后1H核屏蔽作用减少,氢键属于去屏蔽效应。,23:43:09,3.空间效应,23:43:09,空间效应,Ha=3.92ppmHb=3.55ppm

5、 Hc=0.88ppm,Ha=4.68ppmHb=2.40ppm Hc=1.10ppm,去屏蔽效应,23:43:09,(三)各类有机化合物的化学位移,饱和烃,-CH3: CH3=0.791.10ppm -CH2: CH2 =0.981.54ppm -CH: CH= CH3 +(0.5 0.6)ppm,H=3.24.0ppm H=2.23.2ppm H=1.8ppm H=2.1ppm H=23ppm,23:43:09,各类有机化合物的化学位移,烯烃,端烯质子:H=4.85.0ppm,内烯质子:H=5.15.7ppm,与烯基,芳基共轭:H=47ppm,芳香烃,芳烃质子:H=6.58.0ppm,供电

6、子基团取代-OR,-NR2 时:H=6.57.0ppm,吸电子基团取代-COCH3,-CN,-NO2 时:H=7.28.0ppm,23:43:09,各类有机化合物的化学位移,-COOH:H=1013ppm,-OH: (醇)H=1.06.0ppm (酚)H=412ppm,-NH2:(脂肪)H=0.43.5ppm (芳香)H=2.94.8ppm (酰胺)H=9.010.2ppm,-CHO:H=910ppm,23:43:09,常见结构单元化学位移范围,23:43:09,二、偶合常数J (一)自旋偶合与自旋裂分,每类氢核不总表现为单峰,有时多重峰。,原因:相邻两个氢核之间的自旋偶合(自旋干扰);,23

7、:43:09,自旋偶合,23:43:09,磁等同与磁不等同,1. 化学等价(化学位移等价) 若分子中两个相同原子(或两个相同基团)处于相同的化学环境,其化学位移相同,它们是化学等价的。,化学不等价例子:, 对映异构体,在手性溶剂中:两个CH3化学不等价 在非手性溶剂中:两个CH3化学等价,23:43:09, 固定在环上CH2的两个氢化学不等价。, 单键不能快速旋转,连于同一原子上的两个相同基化学不等价。, 与手性碳相连的CH2的两个氢化学不等价。,23:43:09,分子中相同种类的核(或相同基团),不仅化学位移相同,而且还以相同的偶合常数与分子中其它的核相偶合,只表现一个偶合常数,这类核称为磁

8、等同的核。,磁等同例子:,三个H核 化学等同 磁等同,二个H核化学等同,磁等同 二个F核化学等同,磁等同,六个H核 化学等同 磁等同,2. 磁等同,23:43:09,两核(或基团)磁等同条件,化学等价(化学位移相同) 对组外任一个核具有相同的偶合常数(数值和键数),Ha,Hb化学等价,磁不等同。 J Ha FaJ Hb Fa Fa,Fb化学等价,磁不等同。,磁不同等例子:,23:43:09,(二)峰的裂分与偶合常数J,峰的裂分原因: 自旋偶合 相邻两个氢核之间的自旋偶合(自旋干扰); 多重峰的峰间距:偶合常数(J),用来衡量偶合作用的大小。,23:43:09,(三)峰裂分数与峰面积,峰裂分数:

9、n+1 规律;相邻碳原子上的质子数; 系数符合二项式的展开式系数;,峰面积与同类质子数成正比,仅能确定各类质子之间的相对比例。,23:43:09,峰裂分数,23:43:09,峰裂分数,1:1,1:3:3:1,1:1,1:2:1,23:43:09,峰裂分数,1H核与n个不等价1H核相邻时,裂分峰数: (n+1)( n+1)个;,(nb+1)(nc+1)(nd+1)=22 2=8,Ha裂分为8重峰,1:3:3:1,1:2:1,1:1,1:6:15:20:15:6:1,23:43:09,峰裂分数,Ha裂分为多少重峰?,Ha裂分峰:(3+1)(2+1)=12,实际Ha裂分峰:(5+1)=6,强度比近似为:1:5:10:10:5:1,

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