1、2023-1-18第8章IC工艺晶体外延生长技术第第8章章IC工艺晶体外延生工艺晶体外延生长技术长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术第四单元:薄膜技术第四单元:薄膜技术第第8章:章:晶体外延生长技术晶体外延生长技术第第9章:薄膜物理淀积技术章:薄膜物理淀积技术第第10章:薄膜化学汽相淀积章:薄膜化学汽相淀积第8章IC工艺晶体外延生长技术第第8章:章:晶体外延生长技术晶体外延生长技术 为什么需要外延?1)双极分离器件(如:大功率器件的串联电阻问题)2)双极IC(隔离与埋层问题)3)化合物半导体器件及超晶格的异质结问题 4)MOS集成电路Chapter 14 第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章I
2、C工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术 8.1外延层的生长8.1.1生长的一般原理和过程SiCl4的氢化还原成核长大第8章IC工艺晶体外延生长技术 一般认为反应过程是多形式的两步过程 如:(1)气相中 SiCl4+H2=SiCl2+2HCl 生长层表面 2SiCl2=Si+SiCl4(2)气相中 SiCl4+H2=SiHCl3+HCl 生长层表面 SHiCl3+H2=Si+3HCl第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术在在(111)面上生长面上生长,稳定的是双层面稳定的是双层面,位位置置7、8、9比位置比位置1、2、3、4稳定稳定第8章IC工艺晶体外延生长技
3、术在一定的衬底温度在一定的衬底温度下,下,1、2、3、4位位的原子很容易扩散的原子很容易扩散(游离)到(游离)到7、8、9相应的位置,使生相应的位置,使生长迅速在横向扩展。长迅速在横向扩展。即,可看成是多成即,可看成是多成核中心的二维生长。核中心的二维生长。如:如:1200C时时V(111)几百埃几百埃/分分V(112)几百微米几百微米/分分第8章IC工艺晶体外延生长技术 8.1.2生长动力学(14.2,14.3)与热氧化过程不同的是,外延时只有气相质量转移过程和表面吸附(反应)过程。第8章IC工艺晶体外延生长技术 因而,气相外延是由下述步骤组成的多相过程1)反应剂分子以扩散方式从气相转移到生
4、长层 表面2)反应剂分子在生长层表面吸附;3)被吸附的反应剂分子在生长层的表面完成化 学反应,产生硅原子及其它副产物;4)副产物分子丛表面解吸;5)解吸的副产物以扩散的形式转移到气相,随 主气流排出反应腔;6)反应所生成的硅原子定位于晶格点阵,形成 单晶外延层;第8章IC工艺晶体外延生长技术SubstrateContinuous film 8)By-product removal 1)Mass transport of reactantsBy-products 2)Film precursor reactions 3)Diffusion of gas molecules 4)Adsorptio
5、n of precursors 5)Precursor diffusion into substrate 6)Surface reactions 7)Desorption of byproductsExhaustGas delivery第8章IC工艺晶体外延生长技术因而在反应剂浓度较小反应剂浓度较小时有:KS为表面化学反应系数,hG气相质量转移(传输)系数NT为分子总浓度,Y为反应剂摩尔数v为外延层的生长速率(14.2)第8章IC工艺晶体外延生长技术 1)生长速率和反应剂浓度的关系正比(a)!(b)、(c)?SiCl4(气)+Si(固)2SiCl2(气)第8章IC工艺晶体外延生长技术 2)生长
6、速率与外延温度的关系 对于SiCl4,Ea1.9eV SiH4,Ea 1.6eV DG0:0.11cm2s-1 a:1.752第8章IC工艺晶体外延生长技术 在较高温度下:kShG质量转移控制 在较低温度下:kSv(100)v(111)?4)气相质量转移进一步分析可得:由这一公式可得出什么?第8章IC工艺晶体外延生长技术 8.1.3 外延堆垛层错 CCAAAAAAAAAAAAACC BBBCCCCCCCCCCCCCBBB AAABBBBBBBBBBBAAAAA CCCAAAAAAAAACCCCC BBBBCCCCCCCCCBBBBB AAAAABBBBBBBAAAAAA CCCCCCAAAAA
7、CCCCCCC BBBBBBBBCCCBBBBBBBB AAAAAAAABAAAAAAAAA第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术 层错(失配晶核)产生的原因:晶面的缺陷(机械损伤、位错、微缺陷、氧化斑点、杂质沉陷区)和表面污染(灰尘、杂质等),气体和反应剂的纯度不够,温度过低或起伏过大,生长速率过快等。HCl汽相抛光第8章IC工艺晶体外延生长技术 8.2(汽相)外延生长工艺 8.2.1 外延层中的掺杂在外延反应剂中加入掺杂剂 (如:PH3、PCl3、PCl5、AsCl3、AsH3、SbCl3、SbH3和BBr3、BCl3、B2H6等)第8章
8、IC工艺晶体外延生长技术 1)掺杂浓度受汽相中的掺杂剂分气压控制第8章IC工艺晶体外延生长技术 2)生长速率和温度的影响为什么温度升高会使浓度降低?第8章IC工艺晶体外延生长技术Silicon Vapor Phase Epitaxy ReactorsExhaustExhaustExhaustRF heatingRF heatingGas inletGas inletHorizontal reactorBarrel reactorVertical reactor第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术 8.2.2 外延过程中的杂质再分布和自掺杂第
9、8章IC工艺晶体外延生长技术 1)衬底杂质的再分布N1(见page 228)在外延区:时(一般都成立)2)掺入杂质的再分布总分布为:N=N1+N2第8章IC工艺晶体外延生长技术 3)自掺杂(autodoping)效应衬底中的杂质不断地蒸发出来,进入总气流并掺入外延层。4)减小自掺杂效应措施衬底杂质的选择:(扩散系数小、蒸发速率低,如Sb)两步外延、低温(变温)技术(如选择适当的化学体系、光照、等离子体等)、低压技术、掩蔽技术等 8.2.3 清洁技术 8.2.4 外延层性能检测电阻率、杂质分布、厚度、缺陷第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术红
10、外干涉法 IR(Infrared)Reflection,(coherence)Page 369第8章IC工艺晶体外延生长技术 8.2.4 外延过程中的图形漂移(Page 367)对策:晶向偏25,含Cl,(100)第8章IC工艺晶体外延生长技术 8.3 GaAs外延生长工艺 1)汽相外延(369371)难点:As压与生长速率的控制(缺陷)第8章IC工艺晶体外延生长技术 2)液相外延(LPE)特点:杂质均匀、缺陷少,表面质量差、厚度不易控制第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术 8.4异质结问题(370372)晶格失配对策:衬底材料的晶向、过度
11、层第8章IC工艺晶体外延生长技术 缺陷控制和掺杂问题缺陷控制和掺杂问题对策:催化、过度层;新技术;对策:催化、过度层;新技术;主流技术:气相外延主流技术:气相外延第8章IC工艺晶体外延生长技术一种一种GeSiGeSi量子点量子点第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术 8.5 先进外延生技术 1)MBE(molecular beam epitaxy)第8章IC工艺晶体外延生长技术配以RHEED、Auger(AES)进行原位监测;是一超高真空(UHV)系统(10-12 10-6 Torr);衬底温度低500C精度高,但生精度高,但生长速率低,成长速率低,成本高本高第8章IC工
12、艺晶体外延生长技术可以控制到单原子层第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术 2)MOVPE(Metal-organic vapor phase epitaxy)金属氧化物分解(375380)如:三甲基铟、镓(、)三乙基铟()MR3(金属烷基)+XH3(氢化物)=MX+3RH如:Ga(CH3)3+AsH3=GaAs+3CH4又如:xAlCH3)3+(1-x)Ga(CH3)3+AsH3=GaAs+3CH4 特点:低温分解(500
13、C)、生长速率易于控制、杂质易于控制、生产效率远高于MBE第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术 3)SOI(Silicon on Insulators)*SOS(Silicon on Sapphire)是一种异质外延,通常Sapphire的晶向选为(0112)、(1012)、(1102)等 *SIMOX(Separation by Implanted Oxygen)目前已经较广泛应用第8章IC工艺晶体外延生长技术第8章IC工艺晶体外延生长技术*Wafe
14、r Bonding(Smart Cut)To form gas void layer对于对于Si低温600C;高质量薄外延层0.2m表面粗糙度2均匀性5%(200mm)金属污染5x1010/cm3第8章IC工艺晶体外延生长技术 选择性外延(SEG)14.6第8章IC工艺晶体外延生长技术Epi-layer Formation during Plasma-Based PECVD reactorContinuous film 8)By-product removal 1)Reactants enter chamberSubstrate 2)Dissociation of reactants by electric fields 3)Film precursors are formed 4)Adsorption of precursors 5)Precursor diffusion into substrate 6)Surface reactions 7)Desorption of by-productsExhaustGas deliveryRF generatorBy-productsElectrodeElectrodeRF field第8章IC工艺晶体外延生长技术2023-1-18第8章IC工艺晶体外延生长技术