第1章晶体管开关课件.ppt

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1、1第一章 晶体管开关 21.1 半导体二极管1.1.1 半导体基本知识一、什么是半导体?导体 (金属原子的外层电子受原子核的束缚力很小,自由电子成为导电的“载流子”)绝缘体可运动的带电粒子3半导体:导电性能介于导体和绝缘体之间的物质,如硅(Si),锗(Ge)。硅和锗的原子结构模型(a)硅原子 (b)锗原子 简化模型硅和锗都是四价元素,原子的最外层轨道上有四个价电子。41.本征半导体(纯净的半导体晶体)硅和锗的晶体结构()点阵结构 ()共价键结构点阵结构:每个原子周围有四个相邻的原子,原子之间通过共价键紧密结合在一起。原子最外层的价电子不仅围绕两个相邻原子共用一对电子5热激发产生自由电子和空穴室

2、温下,由于热运动少数价电子挣脱共价键的束缚u成为自由电子,同时在共价键中留下一个空位这个空位称为“空穴”。失去价电子的原子成为正离子,就好象空穴带正电荷一样。u在电子技术中,将空穴看成带正电荷的载流子。6空穴运动有了空穴,邻近共价键中的价电子很容易过来填补u这个空穴,这样空穴便转移到邻近共价键中。新的空穴又会被邻近的价电子填补。带负电荷的价电子依次填补空穴的运动,从效果上看,相当于带正电荷的空穴作相反方向的运动。(与自由电子的运动不同)7结论:本征半导体中有两种载流子:u带负电荷的自由电子带正电荷的空穴 热激发产生的自由电子和空穴是成对出现的,电子和空穴又可能重新结合而成对消失,称为“复合”。

3、在一定温度下自由电子和空穴维持一定的浓度。82.N型和P型半导体(1)N型半导体 在硅晶体中掺入五价元素磷,磷原子的五个价电子有四个多出的一个电子不受共价键的束缚,室温下很u容易成为自由电子。磷原子失去一个电子成为正离子(在晶体中不能移动)每个磷原子都提供一个自由电子,自由电子数目大大增加,远远超过空穴数。这种半导体主要依靠电子导电,称为电子型或N型半导体。9N型半导体的特点:自由电子 空 穴 多数载流子(简称多子)少数载流子(简称少子)只要掺入极少量的杂质元素(1106),多子的浓度将比本征半导体载流子浓度增加近106倍。掺入的杂质元素的浓度越高,多数载流子的数量越多。10(2)P型半导体

4、在硅晶体中掺入三价元素硼,硼原子与相邻的四个硅原子由于缺少一个价电子而产生一个空位,这个空位很容易被邻近共价键中的价电子填补。硼原子u得到一个电子成为负离子(在晶体中不能移动),失去价电子的共价键中出现一个空穴,每个硼原子都产生一个空穴,空穴数目大大增加,远远超过自由电子数。这种半导体主要依靠空穴导电,称为空穴型或P型半导体11P型半导体的特点:空 穴 自由电子 多数载流子(简称多子)少数载流子(简称少子)掺入的杂质元素的浓度越高,多数载流子的数量越多。少数载流子是热激发而产生的,其数量的多少决定于温度。123.PN结的形成预备知识:u半导体中载流子有扩散运动和漂移运动两种运动方式。载流子在电

5、场作用下的定向运动称为漂移运动.在半导体中,如果载流子浓度分布不均匀,因为浓度差,载流子将会从浓度高的区域向浓度低的区域运动,这种运动称为扩散运动。u将一块半导体的一侧掺杂成P型半导体,另一侧掺杂成N型半导体,在两种半导体的交界面处将形成一个特殊的薄层PN结13 多子扩散运动形成空间电荷区u由于浓度差,电子和空穴都要从浓度高的区域向扩散的结果,交界面P区一侧因失去空穴而留下不能移动的负离子,N区一侧因失去电子而留下不能移动的正离子,这样在交界面处出现由数量相等的正负离子组成的空间电荷区,并产生由N区指向P区的内电场EIN。PN结14 内电场EIN阻止多子扩散,促使少子漂移 多子扩散 空间电荷区

6、加宽内电场EIN增强 少子漂移促使阻止EINEIN 空间电荷区变窄内电场EIN削弱 u扩散与漂移达到动态平衡形成一定宽度的PN结15小结:PN结中同时存在多子的扩散运动和 少子的漂移运动,达到动态平衡时,扩散运动产生的扩散电流和漂移运动产生的漂移互相抵消,PN结中总的电流为零。164.PN结的单向导电性外加正向电压(也叫正向偏置)u外加电场与内电场方向相反,内电场削弱,扩散运动大大超过漂移运动,N区电子不断扩散到P区,P区空穴不断扩散到N区,形成较大的正向电流,这时称PN结处于“导通”状态。174.PN结的单向导电性外加反向电压(也叫反向偏置)u外加电场与内电场方向相同,增强了内电场,多子扩散

7、难以进行,少子在电场作用下形成反向电流 IR,因为是少子漂移运动产生的,IR很小,这时称PN结处于“截止”状态。18 PN结伏安特性 a.外加正向电压较小时,外电场不足以克服内电场对多子扩散的阻力,PN结仍处于截止状态 b.正向电压大于“开启电压UON”后,i 随着 u 增大迅速上升。UonUon0.5V(0.5V(硅硅)UonUon0.1V(0.1V(锗锗)19 c.外加反向电压时,PN结处于截止状态,反向电流 IR 很小。d.反向电压大于“击穿电压U(BR)”时,反向电流 IR 急剧增加。201.1.2 二极管符号及主要参数A阳极 K阴极 二极管主要参数:1.最大正向电流 IF 2.反向击

8、穿电压U(BR)3.反向电流 IR 4.最高工作频率 211.1.3 二极管应用举例 二极管的伏安特性是一个非线性的曲线,在实际分析电路中,导通时管压降视为一个固定值:UD0.7V(硅)UD0.3V(锗)p42 或视为一个理想开关,即导通时视为“短路”,截止时视为“开路”。这就是电子线路中经常采用的近似估算法。p4422U Ui周期性矩形脉冲231.2 半导体三极管 三极管的结构及工作原理u(a)管芯结构图 (b)结构示意图 (c)电路符号u三极管内部结构的特点:基区很薄,掺杂浓度最低.发射区掺杂浓度很高,远大于基区和集电区的掺杂浓度.发射区和基区之间的PN结称为发射结,集电区和基区之间的PN

9、结称为集电结NPN型三极管b 基极e 发射极c 集电极24PNP型三极管25三极管电流的形成及分配u1.电流的形成 发射区向基区发射电子,形成发射极电流 IE 发射结正向偏置。u电子在基区复合形成基极电流 IB 由于基区很薄且空穴浓度很低,发射区电子进入基区后少数电子和基区空穴复合,绝大多数电子继续扩散到集电结附近。u 集电结反向偏置,基区中扩散到集电结附近的电子,在电场作用下漂移到集电区,形成集电极电流 IC。26三极管电流的形成及分配三极管电流的形成及分配u1.电流的分配关系 u发射区电子在基区每复合一个,就要向集电区供给个电子,这是三极管内固定不变的电流分配原则。BCIIu 称为电流放大

10、系数,值通常在20200之间271.2.1 三极管的特性曲线输入特性曲线输出特性曲线BEBui CECui 28 uBE Uon(0.5V)IB=0IC0截止区截止区u截止条件:uBE Uon(0.5V)特点:特点:IB=0,IC0 c e 之间相当于断开的开之间相当于断开的开关。关。29uBE Uon放大区放大区uCE uBE+u放大条件:uBE Uon uCE uBE 特点:特点:IC=IB,c e 之间之间相当于受控电流源。相当于受控电流源。BCIIP48电流放大倍数BCII30 uBE Uon饱和区饱和区uCE uBE+饱和条件:uBE Uon uCE uBE 特点:特点:IC IB,

11、uCEUCES0.3V,c e 之间相之间相当于闭合的开关。当于闭合的开关。31u饱和条件:uBE Uon uCE uBE 特特点:点:IC IB,uCEUCES0.3V,c e 之间相之间相当于闭合的开关。当于闭合的开关。u截止条件:uBE Uon(0.5V)特点:特点:IB=0,IC0 c e 之间相当于断开的之间相当于断开的开关。开关。截止和饱和两个状态通称为开关状态。321.2.2 三极管的主要参数及应用IbIc1 共发射极电流放大系数=20-200BCIIBCII33三极管的主要参数2 击穿电压 Ucbo,Uceo,Uebo例如:Uebo=6VUeboUebo34三极管的主要参数三极

12、管的主要参数IbIc3 最大电流ICM,最大功率PCMIcm=600mA;PcM=625mW设工作电流设工作电流Ic=200mA Uce625/200=3V35uI 周期性矩形脉冲 (1)uI=0 时,三极管截止,iB=0,iC=0 uO=UCiC RC=UC=12V (2)uI=5V 时,ARuuRUibBEIbRbB20210)7.05()(36uI 周期性矩形脉冲mARUURUICCESCCRCC2.110)25.012()(条件成立VUuCESO25.0BCII假设三极管处于饱和状态mAAIB5.220125VUUCESCE25.03738uPN结正向导通时,P区扩散到N区的空穴,边扩

13、散,边复合逐渐减少,在N区内产生一定数量的空穴积累,形成梯度分布;同理,N区的电子扩散到P区后,也将在P区内产生一定数量的电子积累。这些扩散到对方区域并积累的电子及空穴称为存储电荷。u PN结正向导通时,PN结两侧出现的电子空穴积累的现象叫做电荷存储效应。预备知识:391.2.3 三极管的开关时间和极间电容u由于三极管内部电荷建立和消失均需一定的时间,截止和饱和两种状态的转换不可能瞬间完成。延迟时间 td 上升时间 tr 开启时间 ton(几十到几百纳秒)存储时间 ts下降时间 tf关闭时间 toff(几十到几百纳秒)401.3 MOS场效应管场效应管 P型硅片作衬底,表面制作两个N型区,引出

14、源极(s)和漏极(d),覆盖一层SiO2,在漏源之间绝缘层上再制作一层金属铝,引出栅极(g),衬底也引出一个电极B。MOS场效应管是利用半导体表面的电场效应来控制输出电流的,输入端不需要供给电流 金属-氧化物-半导体场效应管 (Metal-Oxide-Semiconductor)41 uGS=0 时,漏源之间相当于两个背靠背的PN结,无论漏源之间加何种极性的电压,都不能导电。u uGS 为正时,产生一个电场,把P型衬底少子电子吸引到衬底表面,当uGS 增大到一定值UT时,电子在衬底表面形成一个N型层即N型导电沟道。42IG=0ID=gmUGS 小结:MOS管是一个受栅源电压uGS控制的器件 u

15、GSUT时,D-S间无导电沟道,MOS管截止 uGSUT时,D-S间才会形成导电沟道,故称为N沟道增强型MOS管。uGS增大,导电沟道变宽。即改变uGS可以控制iD的大小。43npp 注意PMOS管S D 电流从S流入,D流出44UGS(th)N:开启电压开启电压转移特性转移特性输出特性输出特性 uGSUGS(th)N,管子处于截止状态,D、S之间相当于断开的开关uGS UGS(th)N,uDS较小。iD与uDS之间近似为线性关系,D、S之间相当于一个由uGS控制的可变电阻,uGS越大,曲线越陡,D、S之间的导通电阻越小。uGS UGS(th)N,uDS较大,iD取决于uGS,D、S之间相当于一个受控电流源。45转移特性转移特性输出特性输出特性在夹断区,管子处于截止状态,D、S之间相当于断开的开关。在可变电阻区,D、S之间导通电阻rDS(ON)很小,约为几百欧姆。只要RD远大于这个导通电阻,漏源之间可以看作闭合的开关。MOS管的开关特性4647人有了知识,就会具备各种分析能力,明辨是非的能力。所以我们要勤恳读书,广泛阅读,古人说“书中自有黄金屋。”通过阅读科技书籍,我们能丰富知识,培养逻辑思维能力;通过阅读文学作品,我们能提高文学鉴赏水平,培养文学情趣;通过阅读报刊,我们能增长见识,扩大自己的知识面。有许多书籍还能培养我们的道德情操,给我们巨大的精神力量,鼓舞我们前进。

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