1、介绍介绍Optorun光学镀膜设备光学镀膜设备设设 备备 型型 号号 讲讲 解解设设 备备 机机 构构 总总 成成n真空腔体真空腔体n抽气以及排气系统抽气以及排气系统n真空测量仪器真空测量仪器n全自动蒸发控制系统全自动蒸发控制系统n真空室加热、基板系统真空室加热、基板系统n基板高速旋转机构基板高速旋转机构n电子束蒸发系统电子束蒸发系统nRFRF射频离子源射频离子源n高精度光学监控系统高精度光学监控系统n石英晶振以及速率监控系统石英晶振以及速率监控系统n真空压力自动控制系统真空压力自动控制系统n冷却水压缩空气系统冷却水压缩空气系统n冷凝器冷凝器 一、一、 真真 空空 腔腔 体体1. 观观 察察
2、基基 板板 窗窗 口口2. 遥遥 控控 盒盒 功功 能能nMASK NO下降、EX抬起nSHUTTER IB:离子源挡板开关 EB1:电子枪1挡板开关 EB2:电子枪2挡板开关 nHEARTH HEARTH1:左坩埚台旋转 HEARTH2:右坩埚台旋转nDOME ROTATION 工件盘 顺时针方向旋转 工件盘 逆时针方向旋转3. 真真 空空 室室 内内 部部4. 坩坩 埚埚 种种 类类点点 坩坩 埚埚环环 形形 坩坩 埚埚确确 认认 坩坩 埚埚 位位 置置确认坩埚台中心、坩埚、电子束蒸发源是否在一条直线上5. 电电 子子 枪枪 原原 理理 及及 作作 用用电电 子子 枪枪 总总 装装 图图真
3、空室真空室电电子子枪枪 1 1 电电子子枪枪 2 2高高压导压导入端子入端子 扫扫 描描 控控 制制 器器电电子子枪电枪电控柜控柜低低压导压导入端子入端子 控控 制制 系系 统统电电 子子 枪枪 种种 类类镀膜前确认上、下犄角是否平行，水平镀膜前确认上、下犄角是否平行，水平镀膜前电子枪注意事项镀膜前电子枪注意事项n确认坩埚挡板高度是否80mmn坩埚挡板打开角度90左右n坩埚挡板架子需要包铝箔n镀膜之前用吸尘器吸取灰尘，确保真空室内部清洁80mm挡板角度打开挡板角度打开90左右左右铝箔包住铝箔包住6. 离离 子子 源源 的的 作作 用用离离 子子 源源 种种 类类RF 离子源离子源GL GL 离
4、子源离子源镀膜前离子源注意事项镀膜前离子源注意事项n用角度仪确认离子源的水平及内外角度n确认坩埚挡板高度n离子源挡板打开角度n离子源挡板架子需要包铝箔n确认地线是否连接（共三根）7. 辅正板（辅正板（MASK）的作用）的作用镀膜前镀膜前MASK注意事项注意事项u MASK设定角度18。当角度不是18时调节此螺丝u 确认MASK支杆是否卡在MASK槽上8. 石石 英英 晶晶 振振 以以 及及 速速 率率 监监 控控 系系 统统 石英晶体振荡法监石英晶体振荡法监控膜厚，主要是利用石控膜厚，主要是利用石英晶体的两个效应，压英晶体的两个效应，压电效应和质量负荷效应，电效应和质量负荷效应，通过测定固有谐
5、振频率通过测定固有谐振频率或与固有谐振频率有关或与固有谐振频率有关的参数变化来监控沉积的参数变化来监控沉积薄膜的厚度。薄膜的厚度。石英晶体的频率飘移石英晶体的频率飘移与附加上的质量的关与附加上的质量的关系：系： 附加上的质量附加上的质量增加，振荡频率降低增加，振荡频率降低 质量质量 = 密度密度 X 面积面积 X 厚度厚度9. 光光 学学 监监 控控 系系 统统u实时监测光反射率（或透射率）的变化，并将实时反射率（或透射率）数据提供给主机，从而实现薄膜的光学厚度控制 。u电脑(相当于人体大脑)根据光学膜厚计提供的反射率实时变化曲线，在反射率变化到事先设定的停止位置的一瞬间停止材料蒸镀，从而得到
6、所需要的膜厚。10. 加加 热热 丝丝11. 真真 空空 室室 内内 部部 相相 关关 部部 件件 二、二、 OTFC 电电 控控 柜柜 总总 图图 Gener 电电 控控 柜柜 总总 图图光光 学学 监监 控控 系系 统统 1HOM2-N分光器分光器将Fiber 接受到的光分光后、转变成电信号。HOM2-L投光器投光器卤素灯投光器。投光的同時输出参考信号。HOM2-F Fiber将投光器投出的光送LensUnlt。接受到的光送到分光器。HOM2-N1HOM2-L2HOM2-F9C光光 学学 监监 控控 系系 统统 2HOM-P投光器用电源投光器用电源投光器用的电源。在前面表示Lamp 电压、
7、电流、使用时间。HOM2-D数据处理器数据处理器从分光器发出的光量电信号、从投光器发出的参考信号的光量値（电圧）输送到PC。HOM2-ULens Unlt把光投到监控玻璃、接受反射光。HOM2-PHOM2-D1HOM2-U14离离 子子 源源 总总 装装 图图AMVG-600RUN2AMVG-600RUN2Matching BoxMatching BoxMass Flow ControllerMass Flow Controller3 line3 lineOISC-Ion source ControllerOISC-Ion source Controller中和器中和器电电源源离子源直流离子源
8、直流电电源源AX-300 AX-300 中和器射中和器射频电频电源源AX-1000 RF GeneratorAX-1000 RF Generator离子源射离子源射频电频电源源OIS-Two RF Ion Source (17cm)OIS-Two RF Ion Source (17cm)RFN-3A NeutralizerRFN-3A NeutralizerAM-200RUNAM-200RUNMatching BoxMatching BoxPC气体控制器气体控制器目前，我司使用的冷冻机有两种，Telemark和Polycold在一个完全封闭的环境下，通过压缩机制造循环，并使用特殊配方的介质，从
9、而使电能转化为热能，达到制冷和化霜的功能。 电子枪控制器离子源控制器真空计种类抽气以及排气硬件系统抽气以及排气硬件系统- -（图（图1 1）PLCPLC抽气以及排气软件系统（图抽气以及排气软件系统（图2 2）真空泵n机械泵n罗茨泵n扩散泵机械泵n作用： 前期抽气,为达到低真空的设备.还是罗茨泵的前级泵n原理：建立在玻意耳-马涅特定律的基础上的。PV=K（P-压强 V-体积 K-温度）罗茨泵n作用：用来提高中间压力范围的抽气量n原理：罗茨泵是一种无内压缩的真空泵，通常压缩比很低，故高、中真空泵需要前级泵。罗茨泵的极限真空除取决于泵本身结构和制造精度外，还取决于前级泵的极限真空。为了提高泵的极限真空度，可将罗茨泵串联使用。
